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***气的主要应用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等。用作ICP，气相色谱仪等仪器的载气，标准气、平衡气、零点气等。***气是制氧的副产品，因为***气的沸点介于氧、氮之间，***气厂家，差值很小，所以在***气中常残留一定数量的杂质。

***气和液***有什么不同？

液***是将高纯***气压缩成液态气，储存于杜瓦罐中。液***使用时放出的是气相的，液***储存在杜瓦罐中会有一个自然增压的过程，当它的压力过高时杜瓦罐会进行安全泄压，在这个自然增压和泄压的过程中，***气很简单就被释放了。

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高纯***在半导体工业中用作生产高纯硅和锗晶体的保护气体；可用作系统清洗、屏蔽和增压用的惰性气体；在化学气相沉积、溅射和退火等工艺中有所应用。高纯***也可作为色谱载气。在金属冶炼方面，氧、***吹炼是生产钢的重要措施，每炼1t钢的***气消耗量为1～3m3。此外，对钛、锆、锗等特殊金属的冶炼，以及电子工业中也需要用***作保护气。

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